企業愿景
力集泓光電 成立于2021年,但是實際上我們早在半導體業界深耕多年,也累積了眾多的資源,基于業界需求,我們整合了各方資源與優秀技術人才,并逐步建置了一批擁有核心技術,有著相同進步信念的專精人員,希望能夠為半導體業界提供好的濕法設備整合化平臺!
公司主要的經營目標,主要圍繞在半導體&光電產業 相關濕法制程設備,諸如Wet Bench槽式刻蝕清洗設備,Single Wafer單晶圓刻蝕清洗設備,特殊客制化設備,各類供酸/混酸系統,我司能從 設計>工藝整合>品管>制造生產>售后服務 各環節,為客戶提供各類完整的服務!
半導體相關技術日新月異中,力集泓光電期待各界人士的指導與建議,在這個平臺上,能與客戶&合作伙伴們相互惕勵,共同成長!